Литография — один из важнейших шагов производства современных чипов. Именно благодаря развитию литографических машин удалось так быстро скакануть от 100 микрон до 3 нм за последние 60 лет.
HUAWEI в данный момент занимается технологиями для для печати чипов и попадёт патенты в этой области, что свидетельствует о том, что компания добивается успеха и делает это в хорошем темпе.
Один из патентов был зарегистрирован 13 мая 2021 года. Он касается технологий экстремального ультрафиолета.
Подробно показаны устройство для литографии и способ его управления, которые относятся к области оптики и могут решить проблему, заключающуюся в том, что когерентный свет не может быть однородным из-за формирования фиксированной интерференционной картины.
Такие новости мы постоянно публикуем в Telegram. Подписывайтесь на канал, чтобы ничего не пропустить ;)
Отражающая поверхность отражающего зеркала включает в себя множество микроотражающих поверхностей. Множество микроотражающих поверхностей включает в себя первую микроотражающую поверхность и вторую микроотражающую поверхность, примыкающую к первой микроотражающей поверхности.
Между первой микроотражающей поверхностью и второй микроотражающей поверхностью существует разница по высоте Δh, а разница по высоте Δh находится в интервале (0, ка], где λ — длина волны экстремального ультрафиолетового излучения, а k — положительное целое число, большее или равное 1.
Второй патент называется “Зеркало, фотолитографическое устройство и способ управления”. Он имеет номер заявки на патент CN202110524685.X. Это может решить проблему невозможности гомогенизации когерентного света из-за образования фиксированной интерференционной картины, что также является распространенной проблемой в EUV-литографии.
В патенте представлено устройство для литографии, которое обеспечивает равномерную интенсивность накопленного света в поле зрения во время экспозиции за счет непрерывного изменения интерференционной картины, формируемой когерентным светом.
Это позволит устройству достичь цели равномерного освещения. Это также решает проблему в смежном уровне техники, заключающуюся в том, что свет не может быть однородным из-за когерентного света, формирующего фиксированную интерференционную картину.
Можно заметить, что HUAWEI проводит исследования по решению проблемы, которая стала бутылочным горлышком для литографических машин. Это важная часть прорывов в разработке чипсетов.
Похоже, что HUAWEI в будущем совершит прорыв совместно с другими компаниями. Следовательно, вполне возможно, что в ближайшем будущем HUAWEI сможет создать собственный литографический степпер на 100% китайском чипсете.
Источник: Huaweicentral.